多功能真空镀膜机的运行原理

　　不仅是镀膜应用广泛的设备，多功能真空镀膜机也是在真空环境下应用广泛的设备;真空镀膜机的工作原理各不相同，工艺也会影响其运行方式。负压镀膜机有真空系统，冷却系统，检测系统，镀膜系统;有蒸发镀膜，磁控镀膜，离子式镀膜。

　　多功能真空镀膜机主要是指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括真空离子蒸发、磁控溅射、 MBE分子束外延、 PLD激光溅射沉积等多种类型。其基本思想分为蒸发和溅射两种。

　　需要镀膜的称为基片，镀膜的材料称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。

　　蒸发膜通常是用加热靶标的方法使表面成分以原 du子团或离子的形式蒸发，并沉降到基底表面，通过成膜过程形成薄膜(散点-岛状结构-迷走层结构)。对溅射类镀膜来说，可简单地理解为使用电子或高能激光轰击靶材，并使表面的组分以原子团或离子形式溅射，后沉积到基底表面，经历成膜过程，后形成薄膜。

　　经典的真空镀膜工艺，包括录像带， DAT数据带和许多马达的制作工艺。

　　不同工艺的三种真空镀膜机的工作原理：

　　蒸发器通过加热蒸发器将薄膜蒸发成分子和原子，然后逸出到需要蒸发器的产品表面，冷凝成薄膜。

　　该离子镀层采用弧光放电技术，在负极真空条件下点燃阴极源，与阳极源形成弧光放电，在偏压作用下与反应气体化合形成膜层。